檢視對映體過賰率的原始碼

'''對映體過賰率'''，捷用 ee 表示，即 enantiomeric excess 的縮寫。定義為佇咧對映體透濫物件一个異構體 a 比另外一个異構體 b 加出來的量占總量的百分數。算式如下：


: $ \ ee={ \ frac { a-b } { a + b } } \ times 一百 \ % $

對映體過凊率用來表示一種手性化合物的光學純度。_ ee _ 值愈懸，光學純度嘛愈懸。

對映體傷過凊彩產生佇核磁共振技術較早。彼陣人無法度測量對映體的絕對含量，就按呢用對影體傷過凊率來表示光學純度。這馬人會當做甲測量對映體的絕對含量，所以有人建議漸漸廢除對影體過凊彩這个概念。

==註解==

[[分類: 待校正]]