https://wiki.taigi.ima.org.tw/w/index.php?action=history&feed=atom&title=%E5%B0%8D%E6%98%A0%E9%AB%94%E9%81%8E%E8%B3%B0%E7%8E%87 2026-05-16T07:23:45Z 本 wiki 上此頁面的修訂紀錄 MediaWiki 1.43.1 https://wiki.taigi.ima.org.tw/w/index.php?title=%E5%B0%8D%E6%98%A0%E9%AB%94%E9%81%8E%E8%B3%B0%E7%8E%87&diff=395140&oldid=prev 2025-08-22T09:20:00Z

<p>從 JSON 檔案批量匯入</p> <p><b>新頁面</b></p><div>&#039;&#039;&#039;對映體過賰率&#039;&#039;&#039;，捷用 ee 表示，即 enantiomeric excess 的縮寫。定義為佇咧對映體透濫物件一个異構體 a 比另外一个異構體 b 加出來的量占總量的百分數。算式如下：<br /> <br /> <br /> : $ \ ee={ \ frac { a-b } { a + b } } \ times 一百 \ % $<br /> <br /> 對映體過凊率用來表示一種手性化合物的光學純度。_ ee _ 值愈懸，光學純度嘛愈懸。<br /> <br /> 對映體傷過凊彩產生佇核磁共振技術較早。彼陣人無法度測量對映體的絕對含量，就按呢用對影體傷過凊率來表示光學純度。這馬人會當做甲測量對映體的絕對含量，所以有人建議漸漸廢除對影體過凊彩這个概念。<br /> <br /> ==註解==<br /> <br /> [[分類: 待校正]]</div>

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