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2025-08-23T04:28:26Z

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'''艾司摩爾'''（英語：ASML Holding N . V .）是一間佇荷蘭恩荷芬的半導體裝置製造商。公司仝時仔佇歐洲佮美國 NASDAQ 上市。全球員工有四十 , 零外名。佇世界十六个國家佮地區提供服務。艾司摩爾公司的主力產品是用於生產大規模積體電路的核心裝置曝光機。佇世界同類產品內底有九十％的市佔率，佇十四奈米製程以下則有一百％的市佔率，是現代積體電路不可欠缺的重要供應商。

==概欲==

一九八四年對荷蘭有名的電子製造商飛利浦獨立，彼當陣辦公室徛佇母公司的空地一邊仔的柴厝內，干焦百外人陸續加入，此後贏當當時當咧發展的大規模積體電路裝置的研究佮製造市場。艾司摩爾公司為半導體生產商提供曬光機佮相關的服務，根據莫耳定律不斷為著提高單位面積整合度作貢獻。二空空七年已經會當提供製造三十七 nm 線寬積體電路的曝光機。

製造大規模積體電路的時愛對半導體晶圓曝光三、四十改。為佇無降低品質的情形下減少曝光次數，艾司摩爾公司咧曝光機頂懸使用德國蔡司公司的光路系統，鏡頭使用螢石佮石英製造，其反射鏡更加是人類史上上平滑的光學鏡面。現光機是懸附加值產品，一台彼當陣龍頭尼康的新的曝光機動不止仔好上億美金。研發週期長，投入資金嘛相當大摸，予單一間公司獨立研發開始出現困難。

艾司摩爾的成功轉變佇咧整合，當年眼前有按呢級別的業界對手，所以無行上完全自主研發的傳統路線，面對按呢的條件，選擇去做專業裝置不如以外包採購代替、用先進製造不如委託廠商協助代理的方法突破，同時佇咧 DUV 節點上除了投資乾式顯影法，運用家己規模較細的優勢，轉向了林本堅佇二空空二年提出，猶閣佇業界推廣的浸潤式顯影技術，而且佮台積電形成同盟，漸漸擊敗去 Nikon 家己的技術，以全球多元分工的模式取得一席之地，其中比如講極紫外曝光（EUV），嘛是透過產業聯盟進行合作，EUV 技術由美國科技公司率先倡導，毋過這个時陣美國家己的曝光機產業已經予日商曝光技術挵倒，艾司摩爾這个時陣出現搶市，夥同濟間美國研究機構、供應商聯合近二空年藏心研發未知的新技術，才總算予實用級別的 EUV 裝置誕生，予得雖然總部佮生產攏佇歐洲，但是艾司摩爾煞像研究單位，干焦負責專業整合、設計佮規台操作等自有強項，大部份極紫外光的技術佮供應攏為美國。

這馬市場上提供量產商用的曝光機廠商按照排名，首位艾司摩爾、第二名尼康（Nikon）、以及佳能（Canon）共三間，根據二空空七年的統計數據，佇中高階現光機市場，艾司摩爾公司約有百分之六十的市場佔有率。上高階市場（immersion），艾司摩爾公司目前大約有百分之九十的市場佔有率，佇十四奈米節點以下更取得百分之一百市佔率，同業競爭對手都無力逐。

二空一空年代以後，艾司摩爾公司繼續堅持製造佮生產方共同來研製的思路，甚至予三星、台積電、英特爾等競爭對手紛紛放落敵意佮成見，呈現死對頭竟然同齊研發並聯合資注 EUV 項目的景象，並已經共客戶交陪若干台 EUV 原型機型，用佇咧研發佮實驗。同時，是因為傳統 TWINSCAN 平台研發的雙重曝光技術嘛對曝光技術做出大量的貢獻。早佇咧零七年尾，三星宣佈成功生產的三十六 nm NAND Flash，是因為的便是雙重曝光技術（double patten）。

TWINSCAN 系列是目前世界上精度上懸，生產效率上懸的，應用上廣泛的高端曝光機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，攏向 ASML 採購 TWINSCAN 機型，譬如講英特爾、三星、海力士、台積電、聯電、格羅方德佮其他台灣十二吋半導體廠。除了目前共開發的 TWINSCAN 平台外，艾司摩爾公司閣咧積極佮 IBM 等半導體公司合作，繼續研發曝光技術，用佇關鍵尺度佇二十二奈米甚至閣較低的積體電路製造。

目前已經商用的上先進機型是 Twinscan NXE : 三千四百 C，每點鐘單位產出做一百三十六片（WPH）十二吋晶片，屬於極紫外線曝光（EUV）機型，用來生產關鍵尺度佇咧七奈米的積體電路。

根據 Bloomberg 資料，二空一八年全球五大半導體裝置製造商分別為應用材料（AMAT）、艾司摩爾（ASML）、東京威力科創（TEL）、科林研發（Lam Research）、科交（KLA），這五大半導體製造商佇二空一八年以其領先的技術、強大的資金支援占領著全球半導體裝置製造業超過七十彼个份額。

==歷史發展==

二空空八年，艾司摩爾公司已經超過日商東京威力科創成做世界第二大半導體裝置商。

二空一空年，以銷售額計算艾司摩爾公司高階曝光機市占率已經達到將近百分之九十。

二空一一年，艾司摩爾公司已經超過美商應用材料公司 ( Applied Materials , Inc ) 成做世界頭一大半導體裝置商。

二空一二年七月十號英特爾斥資四十一億美金收購荷蘭晶片裝置製造商艾司摩爾公司的百分之十五股權，另外出資十億美金，支援艾司摩爾公司加緊開發成本貴參參的晶片製造科技。先以二十一億的美金，收購艾司摩爾公司百分之十股權，蹛股東批准了後，閣用十億美金收購百分之五股權，投注金額會當發展四百五十 mm 機台以及 EUV 研發製造十 nm 技術為兩大主軸。

二空一二年八月初五台積電宣佈加入荷蘭艾司摩爾公司所提出的「客戶聯合投資專案」（Customer Co-Investment Program），根據協定，台積電欲投資 ASML 達到八點三八億歐元，取得艾司摩爾公司約百分之五股權，未來五年並欲投入二陽七點六億歐元，支援艾司摩爾公司的研發計畫。

二空一二年八月二七三星宣佈斥資五四界空三億歐元入股以荷蘭為基地的晶片商艾司摩爾公司百分之三股權，而且額外注資二四點七五億歐元合作研發新技術。

二空一二年十月十七號 ASML Holding NV（ASML）佮 Cymer ( CYMI ) 宣布簽訂合併協定，艾司摩爾公司將以十九石五億歐元收購 Cymer 所有佇外口流通股票，收購 Cymer 目的就佇加速開發 Extreme Ultraviolet 半導體蝕微影技術，兩間公司董事會一致通過這件交易，Cymer 股東將以逐股收取二十萬美金和一孵一五空二股 ASML 普通股，價數比 Cymer 過去三十日均價懸出百分之六十一。

二空一六年六月十六 ASML 宣佈欲以每股一千四百十箍新台票現金，斥資約二十七堵五億歐元（一千億新台票）收購台灣上櫃公司電子束檢測裝置商漢民微測科技股份有限公司（漢微科）（臺證所：'''三千六百五十八'''-TW）全部攏是流迵佇外股份，將以其在台灣百分之一百持股子公司艾普思隆進行股份轉換，此作業佇二空一六年第四季完成。

二空一六年十一月初四 ASML 以十億歐元現金收購德國蔡司公司 ( ZEISS ) 子公司蔡司半導體 ( Carl Zeiss SMT ) 百分之二十四堵九股份

==業績==

* 二空空五年銷售額二十五億兩千九百萬歐元，利純三億一千一百萬歐元。
* 二空空六年銷售額三十五億九千七百萬歐元，利純六億兩千五百萬歐元。生產臺數兩百六十六，簽約機台數三百三十四，待生產機台數一百六十三。
* 二空空七年銷售額三十八億九百萬歐元，利純六億八千八百萬歐元。生產台數百九十六，簽約機台數百六十，待生產機台數九十五。
* 二空空八年銷售額二十九億五千萬歐元，利純三億兩千萬歐元。
* 二空空九年銷售額十五億九千六百萬歐元，利純一億五千萬歐元。
* 二空一空年銷售額四十五億七百萬歐元，利純十億兩百萬歐元。
* 二空一一年銷售額五十六億五千萬歐元，利純十四億六千七百萬歐元。
* 二空一二年銷售額四十七億三千兩百萬歐元，利純十一億四千六百萬歐元。
* 二空一三年銷售額五十二億四千五百萬歐元，利純十億一千五百萬歐元。
* 二空一四年銷售額五十八億五千六百萬歐元，利純十一億九千六百萬歐元。
* 二空一五年銷售額六十二億八千七百萬歐元，利純十三億八千七百萬歐元。
* 二空一六年銷售額六十七億九千五百萬歐元，利純十四億七千兩百萬歐元。
* 二空一七年銷售額九十億五千三百萬歐元，利純二十二億兩千五百萬歐元。
* 二空一八年銷售額一百億九千四百萬歐元，利純二十五億兩千六百萬歐元。
* 二空一九年銷售額一百十八億兩千萬歐元，利純二十五億八千一百萬歐元。
* 二空二空年銷售額一百三十九億七千八百萬歐元，利純三十六億九千七百萬歐元。
* 二空二一年銷售額一百八十六億一千一百萬歐元，利純五十八億八千三百萬歐元。
* 二空二二年銷售額兩百十一億七千三百萬歐元，利純五十六億兩千四百萬歐元。

==相關條目==

* 科交

==註解==

==參考來源==

==外部連結==

* ASML 官方網站

[[分類: 待校正]]

艾司摩爾 - 修訂紀錄

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