「高鴻酸拍」:修訂間差異
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(無差異)
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於 2025年8月22日 (五) 10:22 的修訂
高鴻酸拍是一種無機化合物,化學式為 Ga ( ReO 四 ) 三,存在無水物佮濟款水合物。
製備
將被佇咧高更酸當中五十 ~ 五十五 °C 進行陽極溶解,用硫酸焦燥,會當得著水合物晶體 [Ga ( H 二 O ) 六 ( ReO 四 ) 三]·二 H 二 O。無水物則會當由氧化抹佮七氧化二友佇咧四仔五 °C 反應得著。
化學性質
鼻芳貢貢佇三百 °C 以上分解,生做七氧化二孵佮氧化鼻:
- 二 Ga ( ReO 四 ) 三 → 三 Re 二 O 七 + Ga 二 O 三