「高鴻酸拍」：修訂間差異

於 2025年8月22日 (五) 11:38 的最新修訂

高鴻酸拍是一種無機化合物，化學式為 Sc ( ReO 四 ) 三，其熱穩定性低於同族的四界允相應的化合物。

高鴻酸佮氧化乎反應，攏會當得著高麗酸。對溶液中，會當析出高夢酸的三水合物，伊佇五十 °C 失水，得著 Sc ( ReO 四 ) 三·H 二 O，並且一百四十 °C 得著無水物。五仔五 °C 生做氧化又閣有七氧化二孵。

高鴻酸抹三水合物是三趨晶系晶體，空間群 P 一，a=七嬸三三三 , b=七鼗九八五 , c=二十五八二五 Å；α=九十三分三五 , β=九十二孵二空 , γ=九十七孵四二 °。

高鴻酸抹佇水內底會當和高抹酸銨結晶出 NH 四 Sc ( ReO 四 ) 四·四 H 二 O。

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-'''高鴻酸拍'''是一種無機化合物，化學式為 Ga ( ReO 四 ) 三，存在無水物佮濟款水合物。
+'''高鴻酸拍'''是一種無機化合物，化學式為 Sc ( ReO 四 ) 三，其熱穩定性低於同族的四界允相應的化合物。
-==製備==
+==製備猶閣有性質==
-將被佇咧高更酸當中五十 ~ 五十五 °C 進行陽極溶解，用硫酸焦燥，會當得著水合物晶體 [Ga ( H 二 O ) 六 ( ReO 四 ) 三]·二 H 二 O。無水物則會當由氧化抹佮七氧化二友佇咧四仔五 °C 反應得著。
+高鴻酸佮氧化乎反應，攏會當得著高麗酸。對溶液中，會當析出高夢酸的三水合物，伊佇五十 °C 失水，得著 Sc ( ReO 四 ) 三·H 二 O，並且一百四十 °C 得著無水物。五仔五 °C 生做氧化又閣有七氧化二孵。
-==化學性質==
+高鴻酸抹三水合物是三趨晶系晶體，空間群 P 一，a=七嬸三三三 , b=七鼗九八五 , c=二十五八二五 Å；α=九十三分三五 , β=九十二孵二空 , γ=九十七孵四二 °。
-鼻芳貢貢佇三百 °C 以上分解，生做七氧化二孵佮氧化鼻：
+高鴻酸抹佇水內底會當和高抹酸銨結晶出 NH 四 Sc ( ReO 四 ) 四·四 H 二 O。
+==參考資料==
-: 二 Ga ( ReO 四 ) 三 → 三 Re 二 O 七 + Ga 二 O 三
-==參考文獻==
 [[分類: 待校正]]