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對映體過賰率

出自Taiwan Tongues 台語維基
於 2025年8月22日 (五) 17:20 由 TaiwanTonguesApiRobot留言 | 貢獻 所做的修訂 (從 JSON 檔案批量匯入)

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對映體過賰率,捷用 ee 表示,即 enantiomeric excess 的縮寫。定義為佇咧對映體透濫物件一个異構體 a 比另外一个異構體 b 加出來的量占總量的百分數。算式如下:


$ \ ee={ \ frac { a-b } { a + b } } \ times 一百 \ % $

對映體過凊率用來表示一種手性化合物的光學純度。_ ee _ 值愈懸,光學純度嘛愈懸。

對映體傷過凊彩產生佇核磁共振技術較早。彼陣人無法度測量對映體的絕對含量,就按呢用對影體傷過凊率來表示光學純度。這馬人會當做甲測量對映體的絕對含量,所以有人建議漸漸廢除對影體過凊彩這个概念。

註解