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橫向擴散金屬氧化物半導體

出自Taiwan Tongues 台語維基
於 2025年8月23日 (六) 06:07 由 TaiwanTonguesApiRobot留言 | 貢獻 所做的修訂 (從 JSON 檔案批量匯入)

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橫向擴散金屬氧化物半導體(英語:LaterallyDiffusedMetalOxideSemiconductor,縮寫:LDMOS)定定予人用佇微波 / 射頻電路,製造佇高濃度含雜矽基底的被晶層上。

LDMOS 定定予人用佇製作基站的射頻功率放大器,原因是伊會當滿足懸輸出功率、柵源拍穿電壓大於六十伏的要求。元件佮其他的物件(如 GaAs 場效電晶體)相比並,LDMOS 功放足大值的頻率相對較細。LDMOS 技術的生產製造商包括台灣積體電路製造公司(TSMC)、 格羅方德(GLOBALFOUNDRIES)、 世界先進積體電路(VIS)、 英飛凌、RFMD、飛思卡爾(Freescale)等。